對(dui)磁共(gong)振(zhen)成像序(xu)列(lie)和(he)磁共(gong)振(zhen)成像技術兩部(bu)分(fen)內(nei)容(rong)先後(hou)順序(xu)的(de)編(bian)排(pai)我(wo)是比較糾(jiu)結(jie)的(de)，我(wo)認為技術是目的(de)，而(er)成(cheng)像序(xu)列(lie)則(ze)是途徑，因(yin)此(ci)更(geng)多(duo)時(shi)候(hou)壹(yi)種(zhong)成像技術對應(ying)多種(zhong)成(cheng)像序(xu)列(lie)，但(dan)如(ru)果拋(pao)開(kai)成(cheng)像序(xu)列(lie)直(zhi)接學(xue)習成像技術，那就(jiu)顯得生(sheng)澀難懂，再結合我(wo)的(de)學(xue)習經歷(li)，所(suo)以暫(zan)時(shi)把(ba)成(cheng)像技術的(de)編(bian)排(pai)放(fang)在成(cheng)像序(xu)列(lie)的(de)後(hou)面。而(er)實(shi)際(ji)上成像技術和成(cheng)像序(xu)列(lie)是(shi)相(xiang)互(hu)交(jiao)融(rong)難以分(fen)割的(de)，所(suo)以將兩(liang)者(zhe)有機結(jie)合(he)的(de)學(xue)習應當更(geng)加(jia)有效。

　　當前(qian)磁共(gong)振(zhen)成像發展越(yue)來越(yue)體(ti)現在快字(zi)，而(er)由(you)於(yu)K空(kong)間對(dui)磁共(gong)振(zhen)成像的(de)重(zhong)要意(yi)義，因(yin)此(ci)快速(su)采(cai)集技術主(zhu)要圍繞(rao)縮短(duan)K空(kong)間的(de)填(tian)充時(shi)間進(jin)行。

　　加(jia)快磁共(gong)振(zhen)信號采(cai)集的(de)原(yuan)因(yin)：①普(pu)通采(cai)集方(fang)式太(tai)慢(man)②動態增強掃(sao)描的(de)需(xu)要③運動(dong)器(qi)官(guan)成(cheng)像的(de)需(xu)要（偽(wei)影(ying)）④灌(guan)註(zhu)成(cheng)像的(de)需(xu)要（時(shi)間分(fen)辨力）⑤功(gong)能成像的(de)需(xu)要（時(shi)間分(fen)辨力）⑥經濟效(xiao)益(yi)的(de)需(xu)要。

　　無回(hui)波鏈(lian)序(xu)列(lie)二維圖(tu)像的(de)采(cai)集時(shi)間為(wei)：Ts=TR*Ny*NEX；三(san)維圖(tu)像采(cai)集為：Ts=TR*Ny*Nz*NEX。

　　常用的(de)快速(su)采(cai)集技術：縮短(duan)重(zhong)復(fu)時(shi)間、梯(ti)度回(hui)波代(dai)替自(zi)旋(xuan)回(hui)波、RARE技術、單(dan)次激(ji)發技術、EPI技術、采(cai)集更少相(xiang)位(wei)編(bian)碼(ma)線(xian)、並(bing)行采(cai)集技術、其他(ta)與快速(su)采(cai)集有關的(de)技術。

　　（1）縮短(duan)重(zhong)復(fu)時(shi)間

　　縮短(duan)重(zhong)復(fu)時(shi)間TR使(shi)成(cheng)像速(su)度(du)縮短(duan)，但(dan)是TR決定(ding)T1成分(fen)，縮短(duan)TR將(jiang)不利於(yu)T1WI的(de)成(cheng)像。

　　（2）梯(ti)度回(hui)波代(dai)替自(zi)旋(xuan)回(hui)波

　　自(zi)旋(xuan)回(hui)波類(lei)序(xu)列(lie)是(shi)先(xian)施(shi)加(jia)90°激(ji)發脈沖(chong)將縱(zong)向弛豫打(da)到橫向上，再通過180°聚相(xiang)位(wei)脈沖(chong)的(de)施(shi)加(jia)消(xiao)除(chu)主(zhu)磁場的(de)不均勻(yun)產生(sheng)回(hui)波，但(dan)由於(yu)組(zu)織自(zi)發弛豫因(yin)此(ci)需(xu)要時(shi)間較長，TE需(xu)要10-15ms。

　　而(er)梯(ti)度回(hui)波序(xu)列(lie)是(shi)在小角度脈沖(chong)激(ji)發後，先(xian)施(shi)加(jia)離相(xiang)位(wei)梯(ti)度場，加(jia)速(su)組(zu)織T2弛豫，再(zai)聚相(xiang)位(wei)梯(ti)度場同時(shi)采(cai)集回(hui)波，在糾(jiu)正因(yin)離(li)相(xiang)位(wei)梯(ti)度場引(yin)起(qi)的(de)質(zhi)子(zi)失(shi)相(xiang)位(wei)後(hou)，繼(ji)續(xu)施(shi)加(jia)聚相(xiang)位(wei)梯(ti)度場，質(zhi)子(zi)會往反方(fang)向發生(sheng)失(shi)相(xiang)位(wei)，直(zhi)至橫向磁化矢(shi)量(liang)衰減(jian)為(wei)零。這樣(yang)經過梯(ti)度場的(de)反復(fu)切(qie)換(huan)產生(sheng)信號(hao)幅(fu)度(du)從零到大(da)再到零的(de)完整(zheng)回(hui)波，這(zhe)樣(yang)采(cai)集到的(de)回(hui)波時(shi)間TE可(ke)短(duan)至2ms。

　　（3）RARE技術（快速(su)自(zi)旋(xuan)回(hui)波技術）

　　常規(gui)90°脈沖(chong)後跟(gen)壹(yi)個180°脈沖(chong)，產生(sheng)壹個(ge)回(hui)波，填(tian)充壹(yi)條(tiao)相(xiang)位(wei)編(bian)碼(ma)線(xian)，而(er)快速(su)自(zi)旋(xuan)回(hui)波90°脈沖(chong)後跟(gen)多(duo)個180°脈沖(chong)，產生(sheng)多個(ge)回(hui)波，填(tian)充多(duo)個(ge)相(xiang)位(wei)編(bian)碼(ma)線(xian)，因(yin)此(ci)縮短(duan)時(shi)間為(wei)SE序(xu)列(lie)的(de)1/N。

　　（4）單(dan)次激(ji)發技術

　　單(dan)次激(ji)發技術是在壹(yi)個(ge)90°脈沖(chong)激(ji)發後利(li)用連(lian)續(xu)的(de)聚(ju)相(xiang)位(wei)脈沖(chong)采(cai)集填充K空(kong)間所(suo)需(xu)的(de)全(quan)部(bu)回(hui)波信(xin)號。由(you)於(yu)回(hui)波鏈(lian)很(hen)長，因(yin)此(ci)導(dao)致(zhi)後(hou)部(bu)回(hui)波多(duo)數組(zu)織信(xin)號(hao)很(hen)弱(ruo)，只有(you)水(shui)長TR、長TE特性(xing)還(hai)存在信(xin)號(hao)，因(yin)此(ci)該技術主(zhu)要用於(yu)水(shui)成像中。但成像速(su)度(du)很(hen)快，單(dan)層(ceng)圖(tu)像采(cai)集1秒(miao)左右。

　　（5）平面回(hui)波成(cheng)像序(xu)列(lie)（Echo Planar Imanging，EPI）

　　平面回(hui)波技術（EPI）是梯(ti)度回(hui)波的(de)壹(yi)次激(ji)發采(cai)集多個回(hui)波的(de)模(mo)式，普(pu)通梯(ti)度回(hui)波為(wei)壹次脈沖(chong)激(ji)發後利(li)用梯(ti)度線(xian)圈反向切(qie)換(huan)壹(yi)次采(cai)集壹個梯(ti)度回(hui)波，而(er)EPI是(shi)在壹(yi)次脈沖(chong)激(ji)發後依(yi)靠梯(ti)度線(xian)圈的(de)連(lian)續(xu)反向切(qie)換(huan)，采(cai)集到壹連串梯(ti)度回(hui)波信(xin)號，因(yin)此(ci)K空(kong)間為(wei)迂回(hui)式填(tian)充。

　　並(bing)且該技術可(ke)以與單(dan)次激(ji)發技術聯(lian)用，進(jin)壹步(bu)縮短(duan)采(cai)集時(shi)間。