低場核(he)磁共振技(ji)術研(yan)究國產cmp研(yan)磨液(ye)

什(shen)麽是cmp研磨液(ye)？

CMP 全(quan)稱為(wei) Chemical Mechanical Polishing，即(ji)化(hua)學機(ji)械(xie)拋光。該技術(shu)是(shi)半導(dao)體(ti)晶(jing)圓(yuan)制造的比(bi)備流程之(zhi)壹，對(dui)高精(jing)度(du)、高性(xing)能(neng)晶(jing)圓(yuan)制造至關(guan)重(zhong)要。拋光液(ye)的主要成(cheng)分包括研磨顆(ke)粒、PH值(zhi)調節劑、氧(yang)化(hua)劑、分散劑等。從成(cheng)分中我們(men)就(jiu)大(da)概知(zhi)道(dao)了拋光液(ye)是壹(yi)種對(dui)分散要求很高的納米(mi)材(cai)料(liao)懸(xuan)浮液(ye)，所(suo)以(yi)研磨過(guo)程中對(dui)顆(ke)粒的尺寸(cun)變化(hua)以(yi)及顆(ke)粒在懸(xuan)浮液(ye)中的分散性(xing)都(dou)有著(zhe)極(ji)其嚴苛(ke)的要求。

低場核(he)磁共振技(ji)術研(yan)究國產cmp研(yan)磨液(ye)

低場核(he)磁弛豫(yu)技(ji)術以(yi)水(shui)分子（溶(rong)劑）為(wei)探(tan)針(zhen)，可(ke)以(yi)實時(shi)檢測(ce)懸(xuan)浮液(ye)體系中水(shui)分子的狀態變(bian)化。

低場核(he)磁弛豫(yu)技(ji)術可(ke)以(yi)區分出(chu)納(na)米顆(ke)粒與溶(rong)劑的固(gu)液界面間(jian)那壹(yi)層(ceng)薄(bo)薄(bo)的表(biao)面(mian)溶(rong)劑分子，當(dang)顆(ke)粒尺寸或顆(ke)粒分散性(xing)發(fa)生(sheng)變(bian)化(hua)時(shi)，顆(ke)粒表(biao)面(mian)的溶(rong)劑分子也會發(fa)生(sheng)相應(ying)的變化(hua)。低場核(he)磁弛豫(yu)技(ji)術可(ke)以(yi)靈敏的檢測(ce)到這(zhe)這種變(bian)化(hua)狀態和(he)變化(hua)過(guo)程，從(cong)而可(ke)以(yi)快(kuai)速(su)地評(ping)價(jia)例(li)如拋光液(ye)以(yi)及相關(guan)懸(xuan)浮液(ye)樣(yang)品(pin)的分散性(xing)和(he)懸(xuan)浮液(ye)中顆(ke)粒尺寸的變化(hua)過(guo)程。

低場核(he)磁弛豫(yu)技(ji)術與傳(chuan)統(tong)氮(dan)氣(qi)吸(xi)附法有哪(na)些(xie)差(cha)異？

在低場核(he)磁弛豫(yu)技(ji)術還未應(ying)用(yong)於拋光液(ye)領域(yu)之(zhi)前(qian)，蕞常用(yong)的方(fang)法是(shi)用(yong)氮氣(qi)吸(xi)附法來(lai)表(biao)征顆(ke)粒的比(bi)表(biao)面(mian)積(ji)。但是在實際的研發(fa)與生(sheng)產(chan)過(guo)程中，研究人(ren)員(yuan)發(fa)現(xian)就算(suan)氮(dan)氣吸(xi)附法表(biao)征的研磨顆(ke)粒的比(bi)表(biao)面(mian)積(ji)非(fei)常(chang)穩定，拋光過(guo)程中還是(shi)會發(fa)生(sheng)拋光液(ye)性(xing)能(neng)不穩定的情況(kuang)。而這種情況(kuang)很可(ke)能(neng)是研(yan)磨顆(ke)粒在溶(rong)劑體系中發生(sheng)了(le)團聚(ju)，進而發生(sheng)了(le)尺(chi)寸(cun)上(shang)的變化(hua)而導(dao)致最(zui)終研磨性(xing)能(neng)的問題(ti)。低場核(he)磁弛豫(yu)技(ji)術可(ke)直(zhi)接用(yong)於研(yan)磨液(ye)原(yuan)液(ye)的分散性(xing)檢測(ce)，可(ke)以(yi)快(kuai)速(su)評(ping)價(jia)懸(xuan)浮液(ye)體系的分散性(xing)而(er)被(bei)廣(guang)泛(fan)應(ying)用(yong)於CMP拋光液(ye)的研發(fa)與生(sheng)產(chan)控(kong)制(zhi)中。

低場核(he)磁弛豫(yu)技(ji)術還能(neng)用(yong)於哪(na)些(xie)領域(yu)？

低場核(he)磁弛豫(yu)技(ji)術除了用(yong)於半(ban)導(dao)體(ti)CMP拋光液(ye)，還可(ke)以(yi)用(yong)於國家正(zheng)大(da)力扶(fu)持(chi)的新能(neng)源(yuan)電池(chi)漿料，光伏產業(ye)的導(dao)電(dian)銀(yin)漿，石墨(mo)烯漿料，電子漿料(liao)等(deng)新材(cai)料(liao)領域。這些(xie)方(fang)向都(dou)非(fei)常(chang)適(shi)合(he)采(cai)用(yong)低場核(he)磁弛豫(yu)技(ji)術來(lai)研究其原(yuan)液(ye)的分散性(xing)、穩定性(xing)。