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        1. 產品(pin)列(lie)表PRODUCTS LIST

          首(shou)頁(ye) > 技(ji)術(shu)與(yu)支(zhi)持(chi) > 粉(fen)體(ti)表面(mian)改(gai)性研(yan)究(jiu)-低(di)場核(he)磁技(ji)術(shu)
          粉(fen)體表面(mian)改(gai)性研(yan)究(jiu)-低(di)場核(he)磁技(ji)術(shu)
          點(dian)擊次(ci)數:1738 更(geng)新時(shi)間(jian):2022-11-07

          粉體(ti)表面(mian)改(gai)性研(yan)究(jiu)-低(di)場核(he)磁技(ji)術(shu)

          超(chao)細(xi)粉(fen)體具有(you)常(chang)規(gui)材(cai)料*的(de)優(you)異性能,在(zai)先(xian)進陶瓷(ci)、微(wei)電(dian)子、航(hang)天航(hang)空(kong)、生(sheng)物制(zhi)藥、光學檢測等(deng)領(ling)域(yu)獲(huo)得(de)了(le)廣(guang)泛的(de)應(ying)用(yong),但(dan)由(you)於穩(wen)定(ding)性低(di)、易(yi)發(fa)生(sheng)團聚(ju)和難(nan)於分(fen)散(san),需(xu)要(yao)對(dui)超(chao)細(xi)粉(fen)體進行(xing)適(shi)當的表面(mian)處理(li)以改善(shan)顆粒(li)的(de)表面(mian)特(te)性和提(ti)高(gao)其(qi)分散(san)性能,達到應(ying)用(yong)要(yao)求(qiu)。

          粉(fen)體表面(mian)改(gai)性研(yan)究(jiu)-低(di)場核(he)磁技(ji)術(shu)

          粉(fen)體表面(mian)改(gai)性方法

          粉(fen)體(ti)表面(mian)改(gai)性方法是指(zhi)改(gai)變(bian)非(fei)金(jin)屬(shu)礦物粉(fen)體(ti)表面(mian)或(huo)界(jie)面的(de)物理(li)化(hua)學性質的(de)方法,主(zhu)要(yao)有表面(mian)物理(li)塗(tu)覆、化(hua)學包(bao)覆(fu)、無(wu)機(ji)沈澱包(bao)覆(fu)或(huo)薄膜(mo)、機(ji)械力化(hua)學、化(hua)學插層(ceng)等(deng)。目前(qian)工業(ye)上(shang)粉體表面(mian)改(gai)性常用(yong)的(de)方(fang)法主(zhu)要(yao)有表面(mian)化(hua)學包(bao)覆(fu)改(gai)性法、沈澱反(fan)應(ying)改(gai)性法、機(ji)械化(hua)學改性法和復(fu)合法。

          粉(fen)體(ti)表面(mian)改(gai)性研(yan)究(jiu)進展

          目前(qian),粉體(ti)表面(mian)改(gai)性技(ji)術(shu)成(cheng)為(wei)熱點(dian)研(yan)發(fa)方(fang)向(xiang)之壹。目前(qian)取得(de)的(de)進展主要是納米(mi)金(jin)屬(shu)或氧化(hua)物、氫氧化(hua)物、碳(tan)酸鹽表面(mian)改(gai)性的復(fu)合礦(kuang)物粉(fen)體(ti)材料(liao),如金(jin)屬(shu)/空(kong)心(xin)微(wei)珠(zhu)復(fu)合粉(fen)體(ti)、金(jin)屬(shu)氧化(hua)物/矽(gui)灰(hui)石復(fu)合粉(fen)體(ti)、納米(mi)TiO2/多孔(kong)礦(kuang)物復(fu)合粉(fen)體(ti)、金(jin)屬(shu)氧化(hua)物/重(zhong)晶石復(fu)合粉(fen)體(ti)、金(jin)屬(shu)氧化(hua)物/雲(yun)母(mu)復(fu)合粉(fen)體(ti)等(deng)。

          在(zai)實(shi)際(ji)生產過程(cheng)中,正(zheng)確評(ping)價(jia)表面(mian)改(gai)性效果,對(dui)及(ji)時(shi)調(tiao)整改(gai)性劑、工藝(yi)與(yu)設(she)備(bei)參(can)數(shu)等至(zhi)關(guan)重(zhong)要。低(di)場核(he)磁共振技(ji)術(shu)可用(yong)於粉(fen)體(ti)表面(mian)改(gai)性研(yan)究(jiu),特(te)別是懸(xuan)浮(fu)體(ti)系的表面(mian)特(te)性研(yan)究(jiu)。

          粉(fen)體表面(mian)改(gai)性研(yan)究(jiu)-低(di)場核(he)磁技(ji)術(shu)

          低(di)場核(he)磁技(ji)術(shu)用(yong)於粉(fen)體(ti)表面(mian)改(gai)性研(yan)究(jiu)的(de)基本(ben)原理(li):

          對(dui)於潤(run)濕(shi)的顆粒(li)體(ti)系,顆粒(li)表面(mian)會(hui)附(fu)著(zhe)壹層(ceng)液(ye)相分子(zi),這(zhe)些(xie)液(ye)相分子(zi)因(yin)無(wu)機(ji)相(xiang)表面(mian)的(de)吸(xi)附作用(yong)而(er)運(yun)動受限(xian)。但(dan)未與(yu)顆粒(li)相(xiang)接觸的(de)液(ye)相分子(zi)運(yun)動是自(zi)由(you)的(de),液(ye)相分子(zi)的(de)馳豫(yu)時(shi)間(jian)(relaxation time)與(yu)它所處的(de)運(yun)動狀態密(mi)切(qie)相(xiang)關(guan),自(zi)由(you)狀(zhuang)態(tai)的液(ye)相分子(zi)的(de)核(he)磁(ci)馳豫(yu)時(shi)間(jian)要比束縛狀態的液(ye)相分子(zi)的(de)馳豫(yu)時(shi)間(jian)長(chang)得(de)多(duo),顆粒(li)分(fen)散(san)性更(geng)好的(de)體(ti)系(xi)吸(xi)附溶劑量(liang)相對(dui)更(geng)多,弛豫時(shi)間(jian)也就更(geng)短。因(yin)此(ci),可以利用(yong)低(di)場核(he)磁共振技(ji)術(shu)來(lai)測量(liang)懸(xuan)浮(fu)液(ye)體系的(de)馳豫(yu)時(shi)間(jian),並計(ji)算顆粒(li)的(de)濕(shi)潤(run)比表面(mian)積(ji)(可利用(yong)的(de)吸(xi)附表面(mian)積(ji)),進而(er)用(yong)來(lai)研(yan)究(jiu)顆粒(li)的(de)團聚(ju)狀(zhuang)態、分散(san)性穩定性、親和性以及潤(run)濕(shi)性等問題(ti)。

           粉體(ti)表面(mian)改(gai)性研(yan)究(jiu)-低(di)場核(he)磁技(ji)術(shu)

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